Juvelierizstrādājumu PVD pārklāšanas mašīna

Cietās plēves uzklāšana ir tehnoloģija, ar kuru uz pārklājamās "substrāta" virsmas uzklāj ļoti plānu materiāla plēvi – no dažiem nanometriem līdz aptuveni 100 mikrometriem vai dažu atomu biezumu vai uz iepriekš uzklāta pārklājuma, lai izveidotu. slāņi. Plānās plēves pārklājuma ražošanas procesi ir mūsdienu pusvadītāju rūpniecības, saules paneļu, kompaktdisku, diskdziņu un optisko ierīču nozares pamatā.

Plānās kārtiņas pārklājumu parasti iedala divās plašās kategorijās – ķīmiskās pārklāšanas un fizikālās tvaiku pārklāšanas pārklāšanas sistēmas.

Ir daudz veidu vakuuma krāsns magnetronu izsmidzināšanas. Katram no tiem ir atšķirīgi darbības principi un lietojumprogrammu objekti. Bet tiem ir viena kopīga iezīme: mijiedarbība starp magnētisko lauku un elektroniem liek elektroniem spirāli griezties ap mērķa virsmu, tādējādi palielinot varbūtību, ka argona gāze elektroniski izsitīs jonus. Radītie joni elektriskā lauka iedarbībā sasniedz mērķa virsmu, lai izsmidzinātu mērķi. Pēdējo desmitgažu attīstībā pastāvīgie magnēti ir pakāpeniski pieņemti, un spoļu magnēti tiek izmantoti reti.

Mērķa avots ir sadalīts līdzsvarotos un nelīdzsvarotos veidos. Līdzsvarotajam mērķa avotam ir vienmērīgs pārklājums, un nelīdzsvarotajam mērķa avota pārklājumam ir spēcīgs sasaistes spēks ar substrātu. Balansētos mērķu avotus galvenokārt izmanto pusvadītāju optiskajām plēvēm, un nelīdzsvarotus mērķus galvenokārt izmanto valkājamām dekoratīvām plēvēm.

Neatkarīgi no līdzsvara vai nelīdzsvarotības, ja magnēts ir nekustīgs, tā magnētiskā lauka raksturlielumi nosaka, ka vispārējais mērķa izmantošanas līmenis ir mazāks par 30 procentiem. Lai palielinātu mērķa materiāla izmantošanas līmeni, var izmantot rotējošu magnētisko lauku. Bet, lai pagrieztu magnētisko lauku, ir nepieciešams rotācijas mehānisms, un tajā pašā laikā tiek samazināts izsmidzināšanas ātrums. Rotējošie magnētiskie lauki galvenokārt tiek izmantoti lieliem vai dārgiem mērķiem. Piemēram, pusvadītāju plēves izsmidzināšana. Mazām iekārtām un vispārējām rūpnieciskajām iekārtām bieži tiek izmantots magnētiskā lauka statiskā mērķa avots.

Vakuuma krāsnī ir viegli izsmidzināt metālus un sakausējumus ar magnetrona mērķa avotu, un aizdedze un izsmidzināšana ir ļoti ērta. Tas ir tāpēc, ka mērķis (katods), plazma un izsmidzinātā daļa/vakuuma kamera var veidot cilpu. Bet, ja tiek izsmidzināti izolatori, piemēram, keramika, ķēde ir bojāta. Tāpēc cilvēki izmanto augstfrekvences barošanas avotu un pievieno cilpai spēcīgu kondensatoru. Tādā veidā mērķa materiāls kļūst par kondensatoru izolācijas ķēdē. Tomēr augstfrekvences magnetrona izsmidzināšanas barošanas avots ir dārgs, izsmidzināšanas ātrums ir ļoti mazs, un zemējuma tehnoloģija ir ļoti sarežģīta, tāpēc to ir grūti izmantot plašā mērogā. Lai atrisinātu šo problēmu, tika izgudrota magnetrona reaktīvā izsmidzināšana. Tas ir, izmantojot metāla mērķi, pievienojot argonu un reaktīvo gāzi, piemēram, slāpekli vai skābekli. Kad metāls saskaras ar daļu, tas savienojas ar reaktīvo gāzi, veidojot nitrīdus vai oksīdus enerģijas pārveidošanas rezultātā.

Pieteikums

   Parametrs

Mūsu kompānija

Populāri tagi: juvelierizstrādājumu pvd pārklājuma mašīna, Ķīna, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, pielāgota, pirkt, cena, citāts